本文總結了高中要求的所有常見無機物的工業制備方法，包括工業制HNO₃、H₂SO₄、HCl、氨氣、玻璃等，方便學生進行系統復習。

1.工業制HNO₃

4NH₃+5O₂=（催化劑、△）4NO+6H₂O

（反應條件：800度高溫，催化劑鉑銠合金作用下）

2NO+O₂=2NO₂

3NO₂+O₂=2HNO₃+NO

2.工業制H₂SO₄

沸騰爐：

4FeS₂+11O₂=（高溫）2Fe₂O₃+8SO₂

接觸室：

2SO₂+O₂?（加熱、催化劑）2SO₃

吸收塔：

SO₃+H₂O=（高溫）H₂SO₄

3. 工業制HCl

H₂+Cl₂=（點燃）2HCl

然后用水吸收，在合成塔內完成

4.工業制燒堿

2NaCl+2H₂O=(電解)H₂↑+Cl₂↑+2NaOH

5.工業制純堿（侯氏制堿法）

NH₃+H₂O+CO₂=NH₄HCO₃

NH₄HCO₃+NaCl=NaHCO₃+NH₄Cl（NaHCO₃結晶析出）

總：NaCl＋NH₃＋CO₂＋H₂O＝NaHCO₃＋NH₄Cl

2NaHCO₃=（△）Na₂CO₃+H₂O+CO₂

6.工業制氨氣

合成塔：

3H₂+N₂?（高溫高壓催化劑）2NH₃

注：催化劑為鐵觸媒

7. 工業制玻璃（設備名稱：玻璃窯）

Na₂CO₃+SiO₂=（高溫）Na₂SiO₃+CO₂↑

CaCO₃+SiO₂=（高溫）CaSiO₃+CO₂↑

8. 工業制硅

利用反應 SiO₂+2C=（高溫） Si+2CO↑

能得到不純的粗硅。粗硅需進行精制，才能得到高純度硅。

首先，使Si跟Cl₂起反應： Si+2Cl₂=SiCl₄（400 ℃～500 ℃）

生成的SiCl₄液體通過精餾，除去其中的硼、砷等雜質。然后，用H₂還原SiCl₄： SiCl₄＋2H₂=（高溫） Si+4HCl這樣就可得到純度較高的多晶硅。

9. 工業制漂白粉

2Cl₂+2Ca(OH)₂=CaCl₂+Ca(ClO)₂+2H₂O

10. 工業腐蝕印刷電路板

2FeCl₃+Cu=2FeCl₂+CuCl₂

2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺

11. 工業制金屬Na

2NaCl=（電解）2Na+Cl₂↑

12.工業制金屬Mg

MgCl₂=（電解）Mg+Cl₂↑

13.工業制金屬Al

2Al₂O₃=（電解）4Al+3O₂↑

注：催化劑為熔融的冰晶石，化學式為NaAlF₆

14.工業制生石灰、二氧化碳

高溫煅燒石灰石：

CaCO₃=（高溫） CaO+CO₂

15.高爐煉鐵

Fe₂O₃+3CO=(高溫)2Fe+3CO₂

16.工業制取水煤氣

C+H₂O=（高溫）CO+H₂

17. 粗銅的精煉

電解：陽極用粗銅

陽極：Cu－2e^－＝Cu^2＋

陰極：Cu^2＋＋2e^－＝Cu