近日，FEI宣布推出三款專門滿足特殊的應用和行業需求的透射電鏡(TEM)新品。這三款新產品將為半導體制造和科研提供高效率和有效的特定應用程序。它們是專門用于先進的半導體制造業設的Metrios?TEM，為材料和生命科學研究提供高速成像分析的Talos? TEM ，以及提供原子量級材料特性研究Titan? Themis? TEM。
“加上這三個新產品，在過去一年中，我們已經推出了6款TEM新產品，這是前所未有的”。FEI公司執行副總裁兼首席營運官Benjamin Loh說道。“所有6款新產品都是為專門的應用工作流程而設計制造，它們將為科研和工業細分市場的用戶提供了信息，如：材料科學，化學，生命科學，半導體制造等領域。我們的目標是完全改變TEM的世界，從而讓我們的客戶能夠改變他們的世界。”
Metrios?TEM系統，致力于為需要開發和控制晶片制造工藝的半導體制造商提供快速，精確的測量。透射電鏡基本操作和測量程序廣泛的自動化，最大限度地減少對操作人員培訓的要求。其先進的自動化計量提供比手工操作更高的精度。Metrios? TEM的設計，相比其他電鏡，將為客戶提供更好的分析通量和較低的成本。
Talos TEM結合高分辨率，高通量的TEM快速成像，以及精確定量的能量色散X-射線(EDX)分析，提供先進的分析性能。新的TEM采用了FEI目前亮度最高的電子源和最新的EDX檢測技術，可實現對低濃度和輕元素的高效分析，并擁有FEI獨家的3D EDS X射線斷層成像技術。在較低的加速電壓下，允許使用能量較低的電子束，以減少對樣品的損傷。Talos平臺是完全數字化的，允許遠程操作，并且它可以增加用于特定應用程序的檢測器或動態實驗的樣品架。Talos平臺自動化程度高并易于使用，非常適合于個人研究室以及多人操作的實驗室。
Titan Themis TEM增強了FEI在原子級成像分析方面的領導地位。研究人員使用高分辨率像差校正TEM來研究大尺寸材料的物理性質以及原子尺度之間的組成和結構的關系。Titan Themis平臺可直接測量物理屬性，如磁場，納米尺度，以及下降到原子尺度時的電場。從樣品定位到最終數據采集整個流程均實現了自動化，提高結果的重復性和再現性，從而使用戶以更少的時間和精力獲取更有信心的結論。
