在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。下圖展示了光刻膠如何在一個NMOS三極管的制造工藝中發揮作用。NMOS三級管是半導體制程工藝中常用的集成電路結構之一。
一種 NMOS 三極管集成電路結構的制造過程
在這樣一個典型例子中，步驟1中的綠色部分代表紅色部分多晶硅材料被涂上了一層光刻膠。在步驟2的光刻曝光過程中，黑色的掩膜遮擋范圍之外的光刻膠被都被光刻光源照射，發生了化學性質的改變，在步驟3中表現為變成了墨綠色。在步驟4里，經過顯影之后，紅色表征的多晶硅材料上方只有之前被光罩遮擋的地方留下了光刻膠材料。
于是，光罩（掩模版）上的圖形就被轉移到了多晶硅材料上，完成了“光刻”的過程。在此后的步驟5到步驟7里，基于“光刻”過程在多晶硅材料上留下的光刻膠圖形，“多晶硅層刻蝕”、“光刻膠清洗”和“N+離子注入”工藝共同完成了一個NMOS 三極管的構造。
上圖步驟1中的光刻膠涂膠過程也是一種重要的半導體工藝。其目的就是在晶圓表面建立輕薄，均勻且沒有缺陷的光刻膠膜。一般來說，光刻膠膜厚度從0.5um到1.5um 不等，厚度的誤差需要在正負0.01um以內。半導體光刻膠的涂敷方法主要是旋轉涂膠法，具體可以分為靜態旋轉法和動態噴灑法。
靜態旋轉法涂膠過程示意圖
靜態旋轉法：先把光刻膠通過滴膠頭堆積在硅片的中心，然后低速旋轉使得光刻膠鋪開，再以高速旋轉甩掉多余的光刻膠。在高速旋轉的過程中，光刻膠中的溶劑會揮發一部分。這個過程可以如圖表中所示。靜態涂膠法中的光刻膠堆積量非常關鍵，量少了會導致光刻膠不能充分覆蓋硅片，量大了會導致光刻膠在硅片邊緣堆積甚至流到硅片的背面，影響工藝質量。
名稱 cas
1-丙烯酸金剛烷酯 121601-93-2
1-金剛烷基甲基丙烯酸酯 16887-36-8
丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-基酯 7398-56-3
4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2
1,3-金剛烷二醇單丙烯酸酯 216581-76-9
2-甲基-2-金剛烷醇丙烯酸酯 249562-06-9
2-乙基-2-金剛烷基丙烯酸酯 303186-14-3
1,3-金剛烷二醇二丙烯酸酯 81665-82-9
2-氧代六氫-2H-3,5-亞甲基環戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯 254900-07-7
甲基丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-基酯[ 34759-34-7
2-異丙基-2-金剛烷丙烯酸甲酯 297156-50-4
2-異丙基-2-金剛烷醇丙烯酸酯 251564-67-7
gamma-丁內酯-3-基異丁烯酸酯 130224-95-2
N-異丙基甲基丙烯酰胺 13749-61-6
(9H-芴-9,9-二基)雙(亞甲基)二丙烯酸酯 583036-99-1
(5-氧代四氫呋喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯 156938-09-9
1-乙基環戊基甲基丙烯酸酯 266308-58-1
1-異丙基-1-環己醇甲基丙烯酸酯 811440-77-4
2-甲基-2-丙烯酸4-羥基苯基酯 31480-93-0
n-butyl2-(bromomethyl)prop-2-enoate 170216-64-5
2-(溴甲基)丙烯酸甲酯 4224-69-5
甲基丙烯酸-9-蒽甲酯 31645-35-9
2-oxo-2-((2-oxohexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-6-yl)oxy)ethylmethacrylate[ 347886-81-1
2-乙烯基萘 827-54-3
2-環己基丙烷-2-基甲基丙烯酸酯 186585-56-8
2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氫-呋喃-3-基酯 195000-66-9
丙烯酸甲基環戊酯 178889-49-1
丙烯酸1-乙基環戊酯 326925-69-3
2-氧代四氫呋喃-3-基丙烯酸酯 328249-37-2
4-叔丁氧基苯乙烯 95418-58-9
4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸 69260-42-0
甲基丙烯酸-2,2,3,3,4,4,4-七氟代-丁酯 13695-31-3
3-(4-vinylphenyloxy)-1-propene 16215-47-7
acetic acid,4-ethenylbenzene-1,2-diol 57142-64-0
1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯 157057-20-0
1-甲基環己基甲基丙烯酸酯 76392-14-8
2-氧代-2-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)乙基甲基丙烯酸酯 1176273-16-7
2,5-二甲基己烷-2,5-二基雙(2-甲基丙烯酸酯) 131787-39-8
1-甲基環戊基甲基丙烯酸酯 178889-45-7
1-乙基環己基甲基丙烯酸酯 274248-09-8
4-異丙基苯酚 4286-23-1
(2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate 13818-44-5
乙酸-2-乙烯基苯基酯 63600-35-1
2-(金剛烷-1-基)丁-2-基甲基丙烯酸酯 325991-26-2
1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate 51920-52-6
甲基丙烯酸四氫呋喃-2-基酯 15895-80-4
oxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate 52858-59-0
6-methacryloyl-6-azabicyclo[3.2.0]heptan-7-one 1267624-16-7
3-叔丁氧基苯乙烯 105612-79-1
2-丙烯酸3-(二乙氧基甲基甲硅烷基)丙基酯 13732-00-8
2,3-二羥基丙烯酸丙酯 10095-20-2
2-[(4-乙烯基苯氧基)甲基]環氧乙烷 2653-39-6
3,5-二乙酰氧基苯乙烯 155222-48-3
2-(2,2-二氟乙烯基)雙環[2.2.1]庚烷 123455-94-7
二苯基碘酰氯 1483-72-3
雙［4-(1,1-二甲基乙基)苯基］碘鎓與三氟甲磺酸的鹽 84563-54-2
全氟丁基磺酸三苯基锍鹽 144317-44-2
雙(4-叔丁基苯基)氯化碘鎓 5421-53-4
TBPDPS-PFBS 258872-05-8
1二(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟代丁烷磺酸鹽 194999-85-4
(4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸 111281-12-0
N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸 85342-62-7
wyf 01.22
