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芯片刻蝕機的研發到底有多難?

芯片刻蝕機在芯片研發中非常重要,這個好比你學了很多知識,但是高考還是考不好一樣的道理。也就是它決定著芯片能否最終生產出來的制勝關鍵。放眼全球,目前也只有少數幾個企業可以實現。

其實在芯片生產方面,真正的難度在于光刻機而不是刻蝕機。這里應該會有人疑問,兩者有何區別吧。其實來個比喻就曉得了,比如木匠施工,光刻機好比木料上用墨斗劃線,而刻蝕機相當于用斧子、刨子等具體施工。

而在刻蝕機方面,我國已經取得了非常大的成績。比如7、5納米的刻蝕機我們也能自主生產,現在真正的難點在于光刻機。芯片生產要經歷高達500道左右的工序,必須經過光刻機放樣,刻蝕機施工,清洗機清洗。這意味著光刻機放樣達不到精度,刻蝕機就失去用武之地了。

而ASML便是技術最為先進的企業,服務對象就包括三星、高通等等。也就是說芯片企業如高通、三星都要采購ASML的設備,可想而知芯片光刻機研發有多難。另外光刻機也被稱為集成電路產業皇冠上的明珠,該技術門檻、研發成本非常高,而且要承擔非常高的試錯成本。也因為如此,掌握該技術的企業非常少。

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